EDI超纯水设备概述:
　　EDI技术是离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。它巧妙的将电渗析和离子交换技术相结合，利用两端电极高压使水中带电离子移动，并配合离子交换树脂 及选择性树脂膜以加速离子移动去除。在EDI除盐过程中， 离子在电场作用下通过离子交换膜被清除。 同时，水分子在电场作用下产生氢离子和氢氧根离子， 这些 离子对离子交换树脂进行连续再生，以使离子交换树脂保持状态。
　　EDI 装置属于超纯水处理水系统，一般多与RO反渗透配合使用，组成预处理、反渗透、EDI装置的超纯水处理系统， 取代了传统水处理工艺的混合离子交换设备。  EDI装置进水要求电导率小于20us/cm，反渗透装置完全可以满足要求。 EDI装置可制取电阻率15MΩ.cm以上的超纯水。

 EDI超纯水设备功能性说明:

　　1、根据原水水质与用户URS需求设计系统并配置各功能单元。
　　2、整套系统全自动+PLC控制，确保长效稳定运行，操作简单方便。
　　3、模块式设计安装：EDI模块、反渗透设备与预处理整体机架，结构紧凑，安装方便。
　　4、在线水质监测控制，实时监测水质变化，保障水质安全。
　　5、系统具有无水保护和高、低压、超压力保护等多种装置安全功能。
　　6、融入人机工程学设计、人性化设计，操作简单方便。
　　7、EDI系统采用全自动方式，主要元件采用进口元件，稳定性高，操作简单方便。
　　8、合理浓水回收再利用设计。
　　9、主要元件采用进口元件（如西门子EDI模块），稳定性高。
　　10、主要材料全部采用行业内国际知名品牌，保质保量，并按配置设计。    
　电子行业超纯水系统

简    介：

电子行业对水中的离子含量要求非常高，本系统采用先进的反渗透技术，结合尖端的EDI，混床技术，使产水水质最高可达18.25兆欧，水质符合美国ASTM标准。目前我国电子工业部把电子级水质分为五个行业标准，分别为18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm，以区分不同水质

技术参数：

产水水质：水质符合美国ASTM标准，电子工业部超纯水水质标准18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm五级

产水水量：0.5-100T/H

材    质：玻璃钢 不锈钢 有机玻璃等

工艺流程：

1、预处理→一级反渗透膜→中间水箱→二级反渗透膜→二级纯水箱→EDI增压泵→EDI装置→超纯水箱→超纯水输送泵→抛光混床→紫外线杀菌器→0.2或0.5 μ m精密过滤器→用水点

2、预处理→一级反渗透膜→中间水箱→混床输送泵→混床装置→超纯水箱→超纯水输送泵→抛光混床→紫外线杀菌器→0.2或0.5 μ m精密过滤器→用水点

主要特点：

*该系统一切动作均在预设程序下自动进行，具备全自动功能。

*系统结构布置紧凑，有效节约空间。

*系统能耗低，制水成本低廉。

*系统运行安全可靠，供水管路封闭，出水水质稳定。

适用范围：

生产半导体、光伏太阳能、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件等电子工业用超纯水系统。